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      半導體制程(支撐)材料

      所在位置:首頁  > 產(chǎn)品展示半導體制程(支撐)材料

      三氟碘甲烷 CAS號:2314-97-8 半導體蝕刻材料

      更新時間:2020-07-04 點擊數(shù):4675

      三氟碘甲烷CF3I作為一種新型環(huán)保絕緣氣體,替代SF6應用于電力行業(yè)。它具有良好環(huán)境特性,絕緣強度優(yōu)于SF6CF3I的擊穿分解不會產(chǎn)生有毒產(chǎn)物,一定條件下對絕緣強度等不會產(chǎn)生負面影響。

      產(chǎn)品指標

      產(chǎn)品用途:

      三氟碘甲烷作為滅火劑有滅火效率高、安全性能好、滅火后不留痕跡等特點,是哈龍1301優(yōu)選替代品種;作為制冷劑,具有油溶性和材料相容性好的特點,是傳統(tǒng)氟利昂制冷劑的理想替代品種之一。作為精密儀器清洗劑,對油污清洗徹底,不需要添加表面活性,且氣體循環(huán)使用,不產(chǎn)生二次污染。醫(yī)藥級三氟碘甲烷廣泛應用于抗癌藥物(ABT263,ABT737)。高純?nèi)饧淄榭捎糜诎雽w刻蝕,與同種刻蝕氣體CF4、C4F6相比,蝕刻時具有更高的選擇性和高深寬比。      

      包裝、貯存:

      三氟碘甲烷充裝在鋼質(zhì)無縫氣瓶中,鋼瓶容積分別為1L、4L、40L、47L、100 L,具體包裝規(guī)格可根據(jù)用戶需求定制更改。三氟碘甲烷儲存干陰涼、干燥、通風良好的庫房,遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃,儲區(qū)應備有泄漏應急處理設備。



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